| 英文名称 | 1-(p-tolyl)-1H-benzo[b]thiophen-1-ium trifluoromethanesulfonate |
|---|---|
| 中文名称 | 电子级1-(对甲苯基)-1H-苯并[b]噻吩鎓三氟甲磺酸盐 |
| CAS号 | 445298-29-3 |
| 产品编号 | YH82019 |
| 分子式 | C16H13F3O3S2 |
| 分子量 | 374.03 |
| 英文名称 | 1-(p-tolyl)-1H-benzo[b]thiophen-1-ium trifluoromethanesulfonate |
|---|---|
| 中文名称 | 电子级1-(对甲苯基)-1H-苯并[b]噻吩鎓三氟甲磺酸盐 |
| CAS号 | 445298-29-3 |
| 产品编号 | YH82019 |
| 分子式 | C16H13F3O3S2 |
| 分子量 | 374.03 |
电子级1-(对甲苯基)-1H-苯并[b]噻吩鎓三氟甲磺酸盐是一种性能优异的光敏化合物，具有高化学纯度和良好的热稳定性，适用于高端光刻工艺及微电子器件制造。其独特的分子结构赋予材料优异的光响应性能和低介电特性。
如果需要了解更多产品信息请通过微信或QQ与我们取得联系，我们的团队将为您提供一对一的咨询服务。
QQ：3956182849
微信：
【物理性质】
基本信息
（1）分子式：C16H13F3O3S2
（2）分子量：374.03 g/mol
外观与纯度
（1）外观：白色至浅黄色粉末。
（2）纯度：≥99.5%（电子级）。
物理参数
（1）熔点：150–180°C。
（2）溶解性：易溶于丙酮、乙腈等常见有机溶剂。
（3）热稳定性：高温下表现出优异的稳定性，不易分解。
（4）光响应性：在深紫外区域（DUV）具有高光吸收率。
【应用领域】
光刻工艺
（1）用于先进光刻胶配方，增强光刻胶的化学放大效应和显影分辨率。
（2）适用于深紫外（DUV）和极紫外（EUV）光刻技术，提升成像质量。
电子元件制造
（1）在半导体加工中用作光敏引发剂，支持复杂电路图形的高精度加工。
（2）应用于微电子封装材料，提高绝缘性和耐热性能。
功能性涂层材料
（1）用于开发高透明性和高耐用性的光学涂层。
（2）在显示器行业中，用于制备低反射、高透光性的薄膜材料。
【总结】
电子级1-(对甲苯基)-1H-苯并[b]噻吩鎓三氟甲磺酸盐凭借其高纯度和优异的光化学特性，是现代微电子和光刻工艺中不可或缺的核心材料，为高性能电子产品的制造提供了重要支持。
