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电子级1-(2-氧代-2-苯乙基)四氢噻吩鎓1,1,2,2,3,3,4,4,4-九氟丁烷磺酸盐

1-(2-oxo-2-phenylethyl)tetrahydro-1H-thiophen-1-ium 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate

产品编号 CAS No. MDL No. PubChem ID 分子式 分子量 纯度 外观
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英文名称 1-(2-oxo-2-phenylethyl)tetrahydro-1H-thiophen-1-ium 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate
中文名称电子级1-(2-氧代-2-苯乙基)四氢噻吩鎓1,1,2,2,3,3,4,4,4-九氟丁烷磺酸盐
CAS号301664-71-1
产品编号YH82002
分子式C16H15F9O4S2
分子量506.4

电子级1-(2-氧代-2-苯乙基)四氢噻吩鎓1,1,2,2,3,3,4,4,4-九氟丁烷磺酸盐是一种高纯度光敏化合物,广泛应用于光刻胶材料及微电子加工领域。其分子设计结合了噻吩鎓离子的优异化学稳定性与九氟丁烷磺酸根的强亲电性,能够在光刻过程中生成高活性的酸,满足高分辨率和低缺陷率的生产需求,是先进制程光刻工艺中的重要助剂。

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【物理性质】

基本性质

化学名称:1-(2-氧代-2-苯乙基)四氢噻吩鎓1,1,2,2,3,3,4,4,4-九氟丁烷磺酸盐

分子式:C16H15F9O4S2

分子量:506.4 g/mol

外观与溶解性

外观:白色至浅黄色粉末或晶体

溶解性:易溶于乙腈、丙酮等有机溶剂,不溶于水

热稳定性与储存条件

熔点:约160℃

储存条件:密封避光储存,建议温度范围为0-10℃,防止受潮和分解

【应用领域】

光刻胶材料

作为光刻胶的产酸剂,在紫外(UV)和深紫外(DUV)光刻工艺中具有卓越性能。

1)提高光刻胶的光敏响应速度和显影精度。

2)改善光刻图案的清晰度和边缘直线性。

半导体制造

用于先进制程工艺(如EUV和高精度UV光刻)中,支持微米及亚微米级图案转移。

1)优化刻蚀过程中的酸生成效率,提高工艺一致性。

2)适用于晶圆、封装等关键领域的精密制造。

功能性涂层与光敏材料

在高分辨率显示面板和传感器的制造中,提供稳定的化学与光学性能。

1)增强涂层材料的光敏特性,满足多种精密加工需求。

2)为光学元件加工提供高效的光敏化学解决方案。


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