| 英文名称 | Ethanone,1,1'-[1,3-propanediylbis(oxy-4,1-phenylene)]bis[2,2,2-trifluoro-,1,1'-bis[O-(propylsulfonyl)oxime] |
|---|---|
| 中文名称 | 电子级 产酸剂PAG 203 |
| CAS号 | 300374-81-6 |
| 产品编号 | YH68312 |
| 分子式 | C25H28F6N2O8S2 |
| 分子量 | 662.62 |
| 英文名称 | Ethanone,1,1'-[1,3-propanediylbis(oxy-4,1-phenylene)]bis[2,2,2-trifluoro-,1,1'-bis[O-(propylsulfonyl)oxime] |
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| 中文名称 | 电子级 产酸剂PAG 203 |
| CAS号 | 300374-81-6 |
| 产品编号 | YH68312 |
| 分子式 | C25H28F6N2O8S2 |
| 分子量 | 662.62 |
电子级产酸剂PAG 203是一种高纯度光致产酸剂，广泛应用于半导体光刻胶体系中。其独特的光化学性能和优异的热稳定性，使其能够在紫外（UV）至深紫外（DUV）波段实现高效的酸生成，适配先进光刻工艺对高灵敏度和高分辨率的需求。该产品满足高端电子材料对纯度和性能的严格要求，是提升光刻胶性能的关键组分之一。
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【物理性质】
基本性质
化学名称：PAG 203
分子量：662.62 g/mol
分子式：C25H28O8N2F6S2
外观：白色至浅黄色粉末或晶体
光化学性能
光谱吸收范围：深紫外（DUV）至极紫外（EUV）波段
产酸效率：高光解效率，酸产量稳定
热稳定性与储存条件
熔点：根据结构优化，通常大于150℃
储存条件：密封避光，低温储存（≤25℃），避免湿气和氧化环境
【应用领域】
光刻胶制备
作为关键的光致产酸剂，PAG 203能够在光刻胶中显著提高光敏性能。
（1）适用于ArF、KrF等DUV光刻工艺，支持高分辨率纳米级图案制造。
（2）在EUV光刻中表现出优异的酸生成效率，提升胶体显影性能。
微电子加工
广泛应用于集成电路制造中的高精度图案转移工艺。
（1）优化器件线宽控制，满足高密度集成电路需求。
（2）提升曝光和显影过程中的图形清晰度与稳定性。
特殊电子材料开发
在功能性光刻材料和敏化剂的研发中，PAG 203是重要原料。
（1）应用于光刻胶配方优化，提升材料化学惰性与稳定性。
（2）适配显示器、传感器等领域的高性能电子材料需求。
