| 英文名称 | Sulfonium, tris[4-(1,1-dimethylethyl)phenyl]-, 1,1,1-trifluoromethanesulfonate (1:1) |
|---|---|
| 中文名称 | 电子级 三(4-叔丁基苯基)锍三氟甲磺酸盐 |
| CAS号 | 220155-94-2 |
| 产品编号 | YH84001 |
| 分子式 | C31H39F3O3S2 |
| 分子量 | 580.77 |
| 英文名称 | Sulfonium, tris[4-(1,1-dimethylethyl)phenyl]-, 1,1,1-trifluoromethanesulfonate (1:1) |
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| 中文名称 | 电子级 三(4-叔丁基苯基)锍三氟甲磺酸盐 |
| CAS号 | 220155-94-2 |
| 产品编号 | YH84001 |
| 分子式 | C31H39F3O3S2 |
| 分子量 | 580.77 |
电子级三(4-叔丁基苯基)锍三氟甲磺酸盐是一种高纯度的光致产酸剂，具有独特的分子结构和卓越的光化学性能，专为高端光刻工艺设计。该产品在深紫外（DUV）和极紫外（EUV）光刻中表现出高效的酸生成效率，能够显著提高光刻胶的灵敏度和分辨率。其高纯度特性使其特别适用于半导体制造中的先进制程工艺。
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【物理性质】
基本性质
化学名称：三(4-叔丁基苯基)锍三氟甲磺酸盐
分子式：C31H39F3O3S2
分子量：580.77 g/mol
外观与溶解性
外观：白色至浅黄色粉末或结晶
溶解性：易溶于极性有机溶剂（如丙酮、乙腈、DMF），微溶于非极性溶剂
热稳定性与储存条件
熔点：约210℃
储存条件：密封避光，低温储存（≤25℃），避免湿气和氧化环境
【应用领域】
光刻胶材料
用作高性能光刻胶的关键光致产酸剂，有助于提升光刻图案的分辨率和边缘锐度。
（1）在ArF和KrF光刻胶配方中，提供优异的酸生成效率。
（2）适配EUV光刻胶工艺，满足半导体先进制程需求。
半导体制造
在微电子加工中，优化光刻工艺的显影效果和线宽控制能力。
（1）适用于集成电路制造中的高精度图案转移。
（2）支持高密度封装和小型化器件生产，提升加工良率。
光敏材料研发
用于开发功能性光敏材料，适配多种先进电子应用场景。
（1）提升光敏材料的稳定性与灵敏度，优化工艺性能。
（2）满足显示器、传感器等领域对高分辨率材料的需求。
