| 英文名称 | Sulfonium, triphenyl-, 1-[(3-hydroxytricyclo[3.3.1.13,7]dec-1-yl)methyl] 1,1,2,2-tetrafluoro-1,4-butanedisulfonate (1:1) |
|---|---|
| 中文名称 | 电子级 三苯基锍,1-[(3-羟基三环[3.3.1.13,7]癸-1-基)甲基]1,1,2,2-四氟-1,4-丁二磺酸盐 (1:1) |
| CAS号 | 1428237-74-4 |
| 产品编号 | YH68173 |
| 分子式 | C39H36F4O7S3 |
| 分子量 | 716.83 |
电子级三苯基锍,1-[(3-羟基三环[3.3.1.1³,⁷]癸-1-基)甲基]1,1,2,2-四氟-1,4-丁二磺酸盐是一种高性能光酸生成剂，专为先进光刻工艺设计。其独特的分子结构结合了三苯基锍和多官能团基团，具备优异的光敏性、化学稳定性以及在苛刻条件下的高效性能。该产品广泛应用于半导体制造、光刻胶开发以及其他高精度光电子工艺中，支持新一代芯片与微纳器件的制造需求。
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【物理性质】
基本性质
（1）化学名称：三苯基锍,1-[(3-羟基三环[3.3.1.1³,⁷]癸-1-基)甲基]1,1,2,2-四氟-1,4-丁二磺酸盐
（2）分子式：C39H36F4O7S3
（3）分子量：716.83 g/mol
外观与溶解性
（1）外观：白色或浅黄色粉末。
（2）溶解性：溶于极性有机溶剂，如二甲基亚砜（DMSO）、乙腈和甲醇。
热稳定性与纯度
（1）热稳定性：热分解温度＞200℃，适应多种工艺条件。
（2）纯度：≥99.9%，符合电子级材料的严格质量要求。
【应用领域】
光刻胶材料
（1）用作DUV和EUV光刻胶中的光酸生成剂，提高光刻分辨率和图形保真度。
（2）优化高端制程工艺，支持先进芯片制造需求。
半导体制造
（1）应用于晶圆加工中的光敏反应，助力实现高精度图案转移。
（2）支持5nm及以下节点技术工艺。
光电子与显示技术
（1）在显示面板制造中，用于提升图形处理的精度与分辨率。
（2）适用于光电子器件制造，提高器件的可靠性和性能表现。
