英文名称 | Triphenylsulfonium [(1-adamantylmethoxy)carbonyl]difluoromethanesulfonate |
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中文名称 | 电子级 三苯基硫鎓 1-金刚烷基甲氧基羰基二氟甲烷磺酸盐 |
CAS号 | 1022939-88-3 |
产品编号 | YH68308 |
分子式 | C31H32F2O5S2 |
分子量 | 586.71 |
英文名称 | Triphenylsulfonium [(1-adamantylmethoxy)carbonyl]difluoromethanesulfonate |
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中文名称 | 电子级 三苯基硫鎓 1-金刚烷基甲氧基羰基二氟甲烷磺酸盐 |
CAS号 | 1022939-88-3 |
产品编号 | YH68308 |
分子式 | C31H32F2O5S2 |
分子量 | 586.71 |
电子级三苯基硫鎓 1-金刚烷基甲氧基羰基二氟甲烷磺酸盐是一种高性能光刻材料,用于先进微电子制造中的光敏剂。其结构结合了硫鎓离子的优异光活性和金刚烷基的稳定性,具备高效的光解性能和卓越的电子纯度。该化合物广泛应用于深紫外光刻胶(DUV)和极紫外光刻胶(EUV)中,是实现高分辨率和高精度光刻的关键材料之一。
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【物理性质】
基本性质
(1)化学名称:三苯基硫鎓 1-金刚烷基甲氧基羰基二氟甲烷磺酸盐。
(2)分子式:C31H32F2O5S2
(3)分子量:586.71 g/mol
外观与溶解性
(1)外观:白色至淡黄色结晶粉末。
(2)溶解性:易溶于极性有机溶剂,如二甲基亚砜(DMSO)、丙酮、乙腈等。
热稳定性与纯度
(1)热稳定性:在高温下保持化学稳定性,分解温度>200℃。
(2)纯度:≥99.9%,符合电子级质量标准。
【应用领域】
光刻胶材料
(1)用于深紫外(DUV)和极紫外(EUV)光刻胶的光敏组分,提升光刻图形的分辨率和稳定性。
(2)在半导体制造中实现精密纳米图形的成像和转移。
微电子制造
(1)适用于晶圆加工中的光刻环节,支持高性能芯片的生产工艺。
(2)优化微结构加工,满足先进制程对图形清晰度和形貌精度的需求。
显示器与光电子器件
(1)在显示器生产中用于制造高分辨率显示单元的光敏材料。
(2)支持光电子器件的开发,提升其光电性能和稳定性。