英文名称 | mesityldiphenylsulfonium,perfluoro-1-butanesulfonate |
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中文名称 | 电子级 间甲基二苯基磺酸盐,全氟-1-丁烷磺酸 |
CAS号 | 0-0-YH84019 |
产品编号 | YH84019 |
分子式 | C25H21F9O3S2 |
分子量 | 604.08 |
英文名称 | mesityldiphenylsulfonium,perfluoro-1-butanesulfonate |
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中文名称 | 电子级 间甲基二苯基磺酸盐,全氟-1-丁烷磺酸 |
CAS号 | 0-0-YH84019 |
产品编号 | YH84019 |
分子式 | C25H21F9O3S2 |
分子量 | 604.08 |
电子级全氟-1-丁烷磺酸间甲基二苯基磺酸盐是一种高纯度的磺酸盐类化合物,专为半导体和电子材料应用设计。该化合物由全氟-1-丁烷磺酸根与间甲基二苯基磺酸阳离子组成,具有出色的化学稳定性和优异的热性能。作为一种高效的光酸生成剂(PAG),该产品在深紫外(DUV)和极紫外(EUV)光刻工艺中广泛应用,特别适合用于高分辨率和高灵敏度的光刻胶配方,能显著提升图形保真度和显影效果。
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【物理性质】
1.基本性质
分子式:C25H21F9O3S2
分子量:604.08 g/mol
外观:白色至浅黄色粉末
纯度:≥99.5%
2.溶解性
易溶于极性有机溶剂,如乙腈、丙酮和二甲基亚砜(DMSO)。
不溶于水,但在有机溶剂体系中表现出良好的溶解性和稳定性。
3.热稳定性
热分解温度较高(>250°C),适合用于高温光刻和苛刻的加工条件。需存放于干燥、避光环境,避免长时间暴露在潮湿空气中。
【应用领域】
1.光酸生成剂(PAG)
作为先进光刻胶中的光酸生成剂,在曝光过程中能迅速生成强酸,从而促进光刻胶的显影反应。在深紫外(DUV)和极紫外(EUV)光刻工艺中,表现出优异的灵敏度和分辨率,适用于下一代芯片制造。
2.光刻胶和抗蚀剂配方
用于高性能光刻胶和抗蚀剂配方中,能够提升材料的光敏性能和化学稳定性。在微细加工和高分辨率图形形成中,提供卓越的边缘精度和抗蚀刻性能。
3.电子材料添加剂
在电子材料领域作为添加剂,改善薄膜材料的热稳定性和机械强度,适用于高温和苛刻环境下的应用。广泛应用于半导体制造、显示器生产及其他高精度电子器件的开发。
电子级全氟-1-丁烷磺酸间甲基二苯基磺酸盐以其优越的化学和热性能,为现代光电子和半导体制造工艺提供了重要支持。