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电子级 间甲基二苯基磺酸盐,全氟-1-丁烷磺酸

mesityldiphenylsulfonium,perfluoro-1-butanesulfonate

产品编号 CAS No. MDL No. PubChem ID 分子式 分子量 纯度 外观
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英文名称 mesityldiphenylsulfonium,perfluoro-1-butanesulfonate
中文名称电子级 间甲基二苯基磺酸盐,全氟-1-丁烷磺酸
CAS号0-0-YH84019
产品编号YH84019
分子式C25H21F9O3S2
分子量604.08

电子级全氟-1-丁烷磺酸间甲基二苯基磺酸盐是一种高纯度的磺酸盐类化合物,专为半导体和电子材料应用设计。该化合物由全氟-1-丁烷磺酸根与间甲基二苯基磺酸阳离子组成,具有出色的化学稳定性和优异的热性能。作为一种高效的光酸生成剂(PAG),该产品在深紫外(DUV)和极紫外(EUV)光刻工艺中广泛应用,特别适合用于高分辨率和高灵敏度的光刻胶配方,能显著提升图形保真度和显影效果。

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【物理性质】

1.基本性质

分子式:C25H21F9O3S2

分子量:604.08 g/mol

外观:白色至浅黄色粉末

纯度:≥99.5%

2.溶解性

易溶于极性有机溶剂,如乙腈、丙酮和二甲基亚砜(DMSO)。

不溶于水,但在有机溶剂体系中表现出良好的溶解性和稳定性。

3.热稳定性

热分解温度较高(>250°C),适合用于高温光刻和苛刻的加工条件。需存放于干燥、避光环境,避免长时间暴露在潮湿空气中。

【应用领域】

1.光酸生成剂(PAG

作为先进光刻胶中的光酸生成剂,在曝光过程中能迅速生成强酸,从而促进光刻胶的显影反应。在深紫外(DUV)和极紫外(EUV)光刻工艺中,表现出优异的灵敏度和分辨率,适用于下一代芯片制造。

2.光刻胶和抗蚀剂配方

用于高性能光刻胶和抗蚀剂配方中,能够提升材料的光敏性能和化学稳定性。在微细加工和高分辨率图形形成中,提供卓越的边缘精度和抗蚀刻性能。

3.电子材料添加剂

在电子材料领域作为添加剂,改善薄膜材料的热稳定性和机械强度,适用于高温和苛刻环境下的应用。广泛应用于半导体制造、显示器生产及其他高精度电子器件的开发。

电子级全氟-1-丁烷磺酸间甲基二苯基磺酸盐以其优越的化学和热性能,为现代光电子和半导体制造工艺提供了重要支持。


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