2,3,4-Trihydroxybenzophenone naphthoquinone-1,2-diazido-5-sulfonate

电子级2,3,4-三羟基二苯甲酮 1,2-二叠氮基萘醌-5-磺酸酯是一种高效光敏化合物，专为先进光刻胶配方设计。其独特的分子结构结合了二苯甲酮的光化学活性与叠氮基的光响应特性，在紫外光照射下能够生成活性种，广泛应用于高分辨率光刻工艺中，满足半导体制造领域对精细图案的需求。

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【物理性质】

基本性质

化学名称：2,3,4-三羟基二苯甲酮 1,2-二叠氮基萘醌-5-磺酸酯

分子式：C₂₃H₁₆N₂O₈S

分子量：480.45 g/mol

外观与溶解性

外观：黄色至橙色粉末

溶解性：易溶于甲醇、乙腈等极性有机溶剂

热稳定性与储存条件

熔点：约190℃

储存条件：避光密封储存，建议储存温度为0-10℃，防止氧化和湿气影响

【应用领域】

光刻胶配方

作为光敏剂，显著提升光刻胶的曝光灵敏度和图案分辨率。

（1）适配紫外（UV）和深紫外（DUV）光刻工艺。

（2）增强光刻胶显影过程中图案边缘锐度和清晰度。

半导体制造

广泛应用于集成电路与微电子加工中的图案转移工艺。

（1）支持先进制程的高精度图形刻蚀，提升线宽控制能力。

（2）优化晶圆加工良率，降低缺陷率。

光敏材料研发

用于开发新型光敏材料，满足显示面板、传感器等高端领域需求。

（1）提升材料的光稳定性和热稳定性。

（2）增强材料在复杂环境下的光响应性能，适配多种先进光学应用场景。