triphenylsulfonium bis((trifluoromethyl)sulfonyl)amide

电子级三苯基磺鎓双(三氟甲基磺酰)酰胺（Triphenylsulfonium Bis((trifluoromethyl)sulfonyl)amide）是一种性能优异的光引发剂和高纯度电子化学品，常用于光刻胶、光聚合和其他光敏材料中。其高纯度、低杂质的特性使其在微电子制造和高性能光敏材料领域具有重要价值。

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【物理性质】

基本信息

（1）化学式：C₂₀H₁₅F₆NO₄S₃

（2）分子量：543.51 g/mol

外观与纯度

（1）外观：白色或浅黄色粉末或晶体。

（2）纯度：≥99.0%（电子级）。

物理参数

（1）熔点：160~180°C（具体值随产品批次不同略有差异）。

（2）溶解性：可溶于极性有机溶剂，如丙酮、甲醇等，微溶于水。

（3）稳定性：在密封、干燥条件下具有良好的化学稳定性。

储存条件

（1）建议在密闭干燥容器中储存，避光、避免潮湿环境。

（2）储存温度应低于25°C，并远离强氧化剂和高温环境。

【应用领域】

光刻胶及微电子加工

（1）作为高效光引发剂用于光刻胶中，适用于深紫外光（DUV）和极紫外光（EUV）技术。

（2）提升微细图形的解析度和加工精度，是微电子行业的重要化学品。

光聚合领域

（1）广泛用于光敏涂料、粘合剂及光固化树脂中，确保快速聚合和优异的成膜性能。

（2）适合高性能涂层和复合材料的制备，提升产品的机械性能和耐化学性。

功能性材料开发

（1）在功能性聚合物合成中，作为光敏组分，提供可控反应动力学和光学性能。

（2）适合高端显示器、半导体封装及其他尖端应用场景。

【总结】

电子级三苯基磺鎓双(三氟甲基磺酰)酰胺以其高纯度、优异的光引发效率和良好的化学稳定性，广泛应用于光刻胶和光聚合领域，是电子化学品市场中的重要原材料。