Product Name | triphenylsulfanium,iodide |
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CAS | 3744-08-9 |
ProductNum | YH84020 |
Formula | C18H15IS |
MW | 389.99 |
Product Name | triphenylsulfanium,iodide |
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CAS | 3744-08-9 |
ProductNum | YH84020 |
Formula | C18H15IS |
MW | 389.99 |
电子级三苯基碘化硫鎓盐是一种高纯度的有机硫化合物,广泛应用于半导体和光电子领域。该化合物由三苯基硫鎓阳离子和碘化物阴离子组成,具有优异的光敏性能和热稳定性,常用作光酸生成剂(PAG)或光敏化合物的原料。三苯基碘化硫鎓盐能在光照或热处理下生成强酸,是光刻胶和抗蚀剂配方中提升显影效果和分辨率的重要成分。其电子级纯度和低金属杂质含量确保了在高精密制造中的稳定性和可靠性。
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【物理性质】
1.基本性质
分子式:C18H15IS
分子量:389.99 g/mol
外观:白色或浅黄色结晶粉末
纯度:≥99.5%
2 .溶解性
易溶于极性有机溶剂,如乙腈、丙酮、二甲基亚砜(DMSO)。
在水中溶解度较低,但在某些混合溶剂中表现出良好的溶解性能。
3.热稳定性
热分解温度较高(>200°C),适用于高温光刻和加工工艺。
需存储在干燥、避光环境下,避免吸湿和长时间暴露于空气中。
【应用领域】
1.光酸生成剂(PAG)
作为光刻胶中的光酸生成剂,在深紫外(DUV)和极紫外(EUV)光刻工艺中,能够在曝光后释放出强酸,从而提高显影反应的灵敏度和分辨率。适用于先进光刻技术,可改善图形边缘清晰度和精度。
2.光敏化合物的原料
用于合成光敏材料和感光聚合物,可作为光固化涂料、胶黏剂和光电器件中的关键成分。其强酸生成特性使其在光固化过程中表现出优异的催化效果。
3.抗蚀剂和电子材料
在抗蚀剂配方中用于提升材料的感光性和化学稳定性,广泛应用于半导体制造、显示器生产和精密电子器件加工。作为电子材料的添加剂,能够提高薄膜材料的耐热性和机械强度,增强电子器件的性能和可靠性。
电子级三苯基碘化硫鎓盐凭借其高纯度、优异的光化学性能和稳定性,是现代光电子材料和先进半导体制造中的重要化学品。