Product Name | triphenylsulfonium pentafluoroethanesulfonate |
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CAS | 341979-02-0 |
ProductNum | YH84021 |
Formula | C20H15F5O3S2 |
MW | 462.04 |
Product Name | triphenylsulfonium pentafluoroethanesulfonate |
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CAS | 341979-02-0 |
ProductNum | YH84021 |
Formula | C20H15F5O3S2 |
MW | 462.04 |
五氟乙烷磺酸三苯基硫鎓盐是一种高纯度的有机硫鎓盐化合物,具有极佳的光化学性能,常用于电子工业和半导体加工中。作为一种光酸生成剂(PAG),该化合物在光刻胶和抗蚀剂配方中表现出优异的感光性能,尤其在深紫外(DUV)和极紫外(EUV)光刻技术中应用广泛。其硫鎓离子结构和五氟乙烷磺酸根配体提供了优异的光酸生成效率和稳定性,是先进光刻胶配方中重要的成分。
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[基本性质]
1.基本性质
分子式:C20H15F5O3S2
分子量:462.04 g/mol
外观:白色至浅黄色结晶粉末
2.溶解性
易溶于极性有机溶剂,如乙腈、丙酮和甲醇。
不溶于水,但能在某些有机溶剂中形成稳定溶液。
3.热稳定性
具有较高的热分解温度,适用于高温光刻和加工工艺。
存储时需避光、密封,防止吸湿和分解。
[应用领域]
1.光酸生成剂(PAG)
作为光刻胶的关键成分,能够在曝光过程中生成强酸,促进光刻胶的显影反应。
在深紫外(DUV)和极紫外(EUV)光刻工艺中表现出优异的光酸生成效率,适用于先进半导体器件的制造。
2.电子材料和抗蚀剂
用于抗蚀剂配方中,能够提高抗蚀剂的感光性能和分辨率,改善图形的保真度。
在高分辨率光刻中用于制造先进的芯片和集成电路。
3.有机合成中间体
作为一种含硫化合物的中间体,可用于制备其他复杂的有机硫化物和光敏材料。其五氟乙烷磺酸盐结构能够提供优异的电化学稳定性,适合高性能材料的开发。
电子级五氟乙烷磺酸三苯基硫鎓盐由于其高纯度和优异的光化学性能,已成为现代半导体光刻材料中不可或缺的重要成分