Triphenylsulfonium Bromide

电子级三苯基硫鎓溴盐（Triphenylsulfonium Bromide）是一种常用于半导体制造和光刻胶中的光引发剂。它具有极佳的光化学活性，能够在紫外线照射下引发化学反应，生成高分辨率的图案。由于其高纯度和稳定性，三苯基硫鎓溴盐在集成电路、微机电系统以及显示器制造等高精度领域广泛应用，为光刻工艺中的精密制造提供了关键材料。

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[基本信息]

(1) 分子式：C₁₈H₁₅SBr

(2) 分子量：342.01 g/mol

(3) 溶解性：溶于乙醇、丙酮等有机溶剂。

(4) 微溶于水。

(5) 稳定性：在常温常压下具有良好的化学稳定性。

(6) 储存：避光存储，防止光解。

(7) 熔点：约160-170°C。

[应用领域]

半导体光刻工艺：

(1) 该产品广泛用于紫外（UV）光刻胶的制备，是一种高效的光引发剂。

(2) 在光刻工艺中，三苯基硫鎓溴盐通过吸收紫外光能量引发化学反应，生成高精度图案，特别适用于先进的芯片和集成电路制造。

微机电系统（MEMS）制造：

(1) 其高纯度和优异的光引发性能使其在MEMS生产中能帮助实现纳米级的加工精度。

(2) 有助于提高微电子器件的性能和耐用性。

显示器制造：

(1) 在OLED和LCD等高分辨率显示器的生产中，该材料用于光刻胶的配方中，以提升光刻图案的精细程度。

(2) 它可以改善显示器的分辨率和清晰度，提高显示质量。

三苯基硫鎓溴盐作为一种高效的光引发剂，凭借其优异的物理性能和高纯度，为半导体、MEMS及显示器制造等高端领域提供了可靠的支持。