triphenylsulfonium 3-(methacryloyloxy)propane-1-sulfonate

三苯基硫鎓 3-(甲基丙烯酰氧基)丙烷-1-磺酸酯是一种高纯度的光敏化学品，广泛应用于电子级光刻胶和光敏树脂的配方中。该化合物具有良好的光反应性和化学稳定性，可满足高分辨率光刻工艺对性能和纯度的严格要求，适用于微电子和半导体制造领域的关键工艺环节。

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【物理性质】

基本性质

化学名称：三苯基硫鎓 3-(甲基丙烯酰氧基)丙烷-1-磺酸酯

分子式：C₂₅H₂₆O₅S₂

分子量：470.12 g/mol

外观：白色至浅黄色粉末或晶体

光敏特性

吸收波长范围：320–400 nm，适用于紫外（UV）曝光工艺。

具有高效的光引发性能，能够显著提升光刻胶的感光效率。

稳定性与储存条件

在干燥、避光环境中具有良好的化学稳定性。

建议储存温度：2–8°C，避免高温和湿度。

【应用领域】

光刻胶材料

用作紫外光刻胶的光引发剂，提高光刻图形的分辨率和清晰度。

在亚微米和纳米级集成电路制造中应用广泛。

光敏树脂

用于生产高性能光敏树脂，应用于涂料和胶黏剂等领域。

在紫外固化涂层技术中起到关键作用，确保高效固化和低残留。

微电子和半导体制造

支持微机电系统（MEMS）、光电子器件和先进显示面板的制造。

应用于先进封装工艺，为提升集成电路性能提供支持。

【总结】

三苯基硫鎓 3-(甲基丙烯酰氧基)丙烷-1-磺酸酯以其高纯度、优异的光敏特性和稳定性，成为高端光刻胶和光敏材料开发中的重要组成部分，为微电子和半导体行业的技术突破提供了重要助力。