Triphenylsulfonium nonaflate

电子级全氟丁基磺酸三苯基锍盐是一种高性能光酸生成剂，专为高分辨率光刻工艺设计。其优异的化学稳定性和光酸生成效率使其成为先进制程中关键材料之一，特别适用于深紫外（DUV）和极紫外（EUV）光刻技术。该产品满足苛刻的电子级纯度需求，广泛应用于半导体制造和微电子加工领域，助力实现精密图形转移和高集成度器件的生产。

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【物理性质】

基本性质

（1）化学名称：全氟丁基磺酸三苯基锍盐。

（2）分子式：C₂₂H₁₅F₉O₃S₂

（3）分子量：562.46 g/mol。

外观与溶解性

（1）外观：白色至浅黄色粉末。

（2）溶解性：易溶于常见有机溶剂，如甲醇、丙酮和乙腈。

热稳定性与纯度

（1）热分解温度：＞180℃，满足光刻过程中热处理要求。

（2）纯度：≥99.9%，符合电子级标准，杂质含量极低。

【应用领域】

光刻技术

（1）用作DUV和EUV光刻胶中的光酸生成剂，提升感光灵敏度。

（2）确保光刻胶的图形分辨率和精准度，适应先进制程工艺。

半导体制造

（1）适用于晶圆加工中的蚀刻和图形转移工艺，满足7nm及以下节点的技术需求。

（2）提高半导体器件的性能和稳定性，支持高密度电路设计。

其他电子领域

（1）在显示面板制造中，用于提升微细图形生成效果。

（2）适合光电子器件和集成光学系统的精密加工，优化性能表现。