Product Name | triphenylsulfanium,4-(tert-butyl)phenyl)diphenylsulfonium |
---|---|
CAS | 0-0-YH84018 |
ProductNum | YH84018 |
Formula | C22H25NF10S3O4 |
MW | 643 |
Product Name | triphenylsulfanium,4-(tert-butyl)phenyl)diphenylsulfonium |
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CAS | 0-0-YH84018 |
ProductNum | YH84018 |
Formula | C22H25NF10S3O4 |
MW | 643 |
电子级三苯基硫全氟丁烷磺酸盐是一种高纯度的有机硫化合物,具有出色的热稳定性和化学稳定性。该化合物由三苯基硫阳离子和全氟丁烷磺酸根阴离子组成,是一种强酸性光酸生成剂(PAG),主要应用于深紫外(DUV)和极紫外(EUV)光刻工艺中。由于其优异的光化学反应性和低金属杂质含量,该产品特别适合用于高精度光刻胶和抗蚀剂的配方,能够显著提高图形分辨率和显影性能。
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【物理性质】
1.基本性质
分子式:C22H25NF10S3O4
分子量:643 g/mol
外观:白色或浅黄色结晶粉末
纯度:≥99.5%
2.溶解性
易溶于极性有机溶剂,如乙腈、丙酮和二氯甲烷。
在水中溶解度较低,但在混合溶剂体系中表现出良好的溶解性。
3.热稳定性
热分解温度高(>250°C),适用于高温条件下的光刻工艺。
需存储在干燥、阴凉环境,避免长时间暴露于空气和湿气中。
【应用领域】
1.光酸生成剂(PAG)
作为先进光刻胶的光酸生成剂,在深紫外(DUV)和极紫外(EUV)光刻中表现优异,能够在曝光后释放强酸,从而提升显影效率和图形保真度。适用于高分辨率和高灵敏度的光刻胶配方,有助于实现精细图形结构。
2.抗蚀剂和光刻胶
用于高性能抗蚀剂和光刻胶的配方中,提升材料的光敏性能和耐化学蚀刻性能。在微电子加工中,提供卓越的显影性能和边缘分辨率,适用于先进的芯片制造。
3.电子材料添加剂
作为电子材料中的功能性添加剂,提升薄膜的机械强度和耐热性能。广泛应用于半导体器件、显示器和光电子器件的制造中,提高产品性能和稳定性。
电子级三苯基硫全氟丁烷磺酸盐凭借其高纯度和出色的光化学性能,成为现代光刻和电子材料领域的重要化学品,支持高精度和高可靠性的加工工艺。