Product Name | (4-(tert-butyl)phenyl)diphenylsulfonium,2,4,6-tris(1-methylethyl)benzenesulfonate(1:1) |
---|---|
CAS | 0-0-YH84015 |
ProductNum | YH84015 |
Formula | C37H46O3S2 |
MW | 602.29 |
Product Name | (4-(tert-butyl)phenyl)diphenylsulfonium,2,4,6-tris(1-methylethyl)benzenesulfonate(1:1) |
---|---|
CAS | 0-0-YH84015 |
ProductNum | YH84015 |
Formula | C37H46O3S2 |
MW | 602.29 |
电子级(4-(叔丁基)苯基)二苯基锍 2,4,6-三(1-甲基乙基)苯磺酸盐是一种高纯度锍盐化合物,结合了三芳基锍阳离子的优异光敏性和特殊苯磺酸盐的强酸稳定性。该产品具有出色的光敏性能和化学稳定性,广泛用于高端半导体和微电子制造中的光刻胶及相关领域。
如果需要了解更多产品信息请通过微信或QQ与我们取得联系,我们的团队将为您提供一对一的咨询服务。
QQ:3956182849
微信:
[基本信息]
中文名称:(4-(叔丁基)苯基)二苯基锍 2,4,6-三(1-甲基乙基)苯磺酸盐 (1:1)
英文名称:(4-(tert-butyl)phenyl)diphenylsulfonium,2,4,6-tris(1-methylethyl)benzenesulfonate(1:1)
分子式:C37H46O3S2
分子量:602.29 g/mol
外观:浅黄色至白色粉末或晶体。
纯度:≥99.9%,符合电子级标准。
溶解性:
(1)溶于极性有机溶剂,如乙腈、二氯甲烷。
(2)对水不溶,表现出较高的疏水性。
热稳定性:在高温条件下(最高250-300°C)仍能保持化学稳定性。
光敏特性:在紫外光激发下表现出优异的反应性能。
[应用领域]
光刻胶配方
(1)用于深紫外(DUV)和极紫外(EUV)光刻技术,提高分辨率和显影对比度。
(2)提升光刻胶的曝光灵敏度,满足纳米级微图形制造需求。
微电子与半导体制造
(1)应用于干法蚀刻技术,支持高精度微纳加工。
(2)作为化学放大光刻胶的重要光敏剂,提高光刻工艺效率。
高性能材料研发
(1)用于制备具有耐高温和抗化学腐蚀的功能薄膜。
(2)支持高端显示设备、新能源器件及微电子封装的精密制造。
优势
本产品凭借其优异的光敏性能、高纯度及热化学稳定性,为半导体制造工艺提供关键支持,适用于苛刻环境下的高精度制造需求。