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(4-(tert-butyl)phenyl)diphenylsulfonium,2,4,6-tris(1-methylethyl)benzenesulfonate(1:1)

ProductNum CAS No. MDL No. PubChem ID Formula MW Purity Appearance
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Product Name (4-(tert-butyl)phenyl)diphenylsulfonium,2,4,6-tris(1-methylethyl)benzenesulfonate(1:1)
CAS0-0-YH84015
ProductNumYH84015
FormulaC37H46O3S2
MW602.29

电子级(4-(叔丁基)苯基)二苯基锍 2,4,6-(1-甲基乙基)苯磺酸盐是一种高纯度锍盐化合物,结合了三芳基锍阳离子的优异光敏性和特殊苯磺酸盐的强酸稳定性。该产品具有出色的光敏性能和化学稳定性,广泛用于高端半导体和微电子制造中的光刻胶及相关领域。

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[基本信息]

中文名称:(4-(叔丁基)苯基)二苯基锍 2,4,6-(1-甲基乙基)苯磺酸盐 (1:1)

英文名称:(4-(tert-butyl)phenyl)diphenylsulfonium,2,4,6-tris(1-methylethyl)benzenesulfonate(1:1)

分子式:C37H46O3S2

分子量:602.29 g/mol

外观:浅黄色至白色粉末或晶体。

纯度:≥99.9%,符合电子级标准。

溶解性:
1)溶于极性有机溶剂,如乙腈、二氯甲烷。
2)对水不溶,表现出较高的疏水性。

热稳定性:在高温条件下(最高250-300°C)仍能保持化学稳定性。

光敏特性:在紫外光激发下表现出优异的反应性能。

[应用领域]

光刻胶配方
1)用于深紫外(DUV)和极紫外(EUV)光刻技术,提高分辨率和显影对比度。
2)提升光刻胶的曝光灵敏度,满足纳米级微图形制造需求。

微电子与半导体制造
1)应用于干法蚀刻技术,支持高精度微纳加工。
2)作为化学放大光刻胶的重要光敏剂,提高光刻工艺效率。

高性能材料研发
1)用于制备具有耐高温和抗化学腐蚀的功能薄膜。
2)支持高端显示设备、新能源器件及微电子封装的精密制造。

优势
本产品凭借其优异的光敏性能、高纯度及热化学稳定性,为半导体制造工艺提供关键支持,适用于苛刻环境下的高精度制造需求。


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86-571-82693216
CS